Concours de la meilleure photographie d'un lieu de mémoire 2019-2020
Actualité, Lun 11 mai 2020 Les Fondations de la Résistance, pour la Mémoire de la Déportation et Charles de Gaulle organisent chaque année le concours de la meilleure photographie d'un lieu de Mémoire. Ce concours, le seul du genre, offre aux élèves la possibilité de photographier des lieux de mémoire relatif à la Résistance intérieure et extérieure, à l'internement et à la Déportation situés en France ou à l'étranger. Par la maîtrise de la technique photographique et la rédaction d'un court texte expliquant leur démarche, les candidats expriment leur sensibilité à l'égard des aspects artistiques et architecturaux des lieux de mémoire de la Seconde Guerre mondiale. Avant toute participation, nous vous invitons à lire le règlement du concours : http://www.fondationresistance.org/pages/action_pedag/concours_p.htm Les photographies doivent être envoyées à l'adresse suivante avant le 14 juillet 2020. Les Fondations de la Résistance, pour la Mémoire de la Déportation et Charles de Gaulle Concours de la meilleure photographie d'un lieu de mémoire 30, boulevard des Invalides 75 007 PARIS Les trois meilleures photographies seront diffusées sur les sites de la Fondation de la Résistance (www.fondationresistance.org), de la Fondation pour la Mémoire de la Déportation (fondationmemoiredeportation.com) et de la Fondation Charles de Gaulle (www.charles-de-gaulle.org). Vous pouvez retrouver toutes les photographies primées ou ayant obtenu une mention depuis l'année scolaire 2000-2001, accompagnées du texte intégral de présentation des candidats, grâce au lien suivant : http://www.fondationresistance.org/pages/action_pedag/anciens_palmares_p.htm
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